> 제품소개 > 탈기장치 > 반도체 공정용
특징
 
간단한 시스켐 구성 - AIR를 이용한 VACUUM 형성 방법 사용
반영구적인 탈기 모듈의 수명 - 구입후 1년간 보증
고가의 모듈 보호를 위한 시스템 구축 가능 - VACUUM 형성/해제 SYSTEM
각종 ALARM 및 VACUUM값 전송으로 사용자의 편의성 제공 가능

적용분야
 
현상액, 신나 탈기
초순수 탈기
Photo Resist 탈기
기타 유기용제 탈기

항목 단위 모델명
- - PDC-20C-A PDC-20C-B PDC-150C-A PDC-150C-B PDD-3L-A PDD-3L-B
적용분야 - 신나,IPA,PR
유기용제등
신나,IPA,PR
유기용제등
신나,IPA,PR
유기용제등
신나,IPA,PR
유기용제등
현상액,초순수등 현상액,초순수등
표준유량 cc/min 10 10 50 (1 module) 50 (1 module) 2000 (1 module) 2000 (1 module)
최대유량 cc/min 20 20 150 (1 module) 150 (1 module) 3000 (1 module) 3000 (1 module)
최대사용압력 MPa 0.2 0.2 0.34 0.34 0.34 0.34
VACUUM 방식 - Diaphragm pump Air Ejector Diaphragm pump Air Ejector Diaphragm pump Air Ejector
전원 - AC 220V - AC 220V - AC 220V -


도면