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탈기장치는 반도체 PHOTO 공정과 세정공정에서 기본 사양으로 사용 되고 있습니다 |
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반도체 웨이퍼 세정공정 및 FPD GLASS세정에 정전기를 방지하는 초순수 대전방지 장치는 점점 더 고밀도가 되어가는 페턴공정에 없어서는 안될 장치로 자리 잡았습니다. |
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또한, 산업용 분야의 탈기장치는 식품공정의 산화방지, 유통기한 연장, 배관부식 방지, 가공시간 단축 등 여러가지 이로운 효과로 인해 최근에는 여러 식품공정에 사용 되고 잇습니다. |
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특히 신제품 개발의뢰에 대해 오랜 경험과 노하우로 고객의 요구에 맞는 제품을 선정 및 개발 공급 할 수 있도록
적극적인 대응을 하고 있습니다. |
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고객의 소리를 먼저 듣고, 말이 아닌 행동으로 고객의 만족을 위하여 항상 신뢰 할 수 있는 제품과 성실한 A/S로
답하겠습니다. |
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반도체 공정 |
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포토공정 |
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세정공정 |
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Chemical탈기가 필요한 공정 |
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산업용 공정 |
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식품공정 : 산화방지, 식재료 조직 보존, 가공시간 단축 우수한 흡수성 |
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곡물재료 : 탄력성유지, 유통기한 연장 |
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주류공정 : 유통기한 연장, 맛 보존 |
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보일러 : 배관 부식 방지 |
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부품세정 : 산화방지 |
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빌딩배관 : 적수방지, 배관수명연장 |
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잉크공정 : 토출 불량방지 |
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회사 개요 |
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상호：주식회사 프록스 코리아 |
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대표 이사：주 병 선 |
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설 립：2012년 02월 01일 |
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본사 소재지：경기도 시흥시 미산동 624-3 |
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TEL：031-314-7378 |
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FAX：031-314-7379 |
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영업품목 |
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반도체 장치, 산업용 장치, 탈취기 |
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주요 생산품（2013.1현재） |
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반도체 공정의 탈기장치, 대전방지장치 (CO2 Bubbler)생산 |
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산업용 공정의 탈기장치, 압력계 등의 판매 및 생산 |
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탈취기의 개발 및 생산 |
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연혁 |
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